ESD 抗靜電材料
以半導體與高階電子製造需求為主要開發方向,可應用於電子包材、塑膠件、治具、透明抗靜電塗層與低光澤抗靜電表面。
- 可依目標表面電阻 (Surface Resistivity) 範圍進行配方調整
- 兼顧透明度、外觀、低光澤與附著力
- 支援塗佈、噴塗與塑膠基材應用
以高階 ESD 抗靜電材料為核心主軸,並提供防霧親水、抗污疏水、低反射與抗指紋等客製化塗層配方,全面支援半導體製程需求。
以半導體與高階電子製造需求為主要開發方向,可應用於電子包材、塑膠件、治具、透明抗靜電塗層與低光澤抗靜電表面。
透過親水材料設計,使水氣不易形成散射霧滴,而能快速展平為均勻水膜,適合鏡片、車燈、護目具與透明材料。
整合現有官網功能塗層項目,包含超疏水/雙疏奈米塗層、低反射塗層、抗指紋 AF 塗層與 AF_NO PFAS 技術。
針對客戶產品規格,調整樹脂、添加劑、溶劑、固化條件與加工參數,使材料性能更貼近實際量產需求。
針對不同基材與製程需求,我們建立三種可同時達成高透明度 (High Transparency) 的抗靜電技術路線。
Liquid Glass / Sol-Gel · 適用金屬基材
UV-Curable · 高速量產製程
Organic Polymer · 適用各式塑膠基材
我們可依半導體、電子、光學與工業產品需求調整配方,不以固定規格限制開發方向。